Stage device and production method thereof, position control method, exposure system and production method thereof, and device and production method thereof
WO0052744
Art A1
8. September 2000
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0052744
- Aktenzeichen
- EP00904075
- Anmeldetag
- 22. Februar 2000
- Veröffentlichung
- 8. September 2000
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027G12B5/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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