Verfahren und Vorrichtung zur Dampfzuführung zu einer Cvd-Kammer

WO0065127 Art A1 2. November 2000

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0065127
Aktenzeichen: EP00928411
Anmeldetag: 26. April 2000
Veröffentlichung: 2. November 2000
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C16/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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