Method of manufacturing semiconductor device and manufacturing apparatus

WO0074128 Art A1 7. Dezember 2000

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0074128
Aktenzeichen: EP00931636
Anmeldetag: 1. Juni 2000
Veröffentlichung: 7. Dezember 2000
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205H01L21/768H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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