Composition for polishing substrate for magnetic disk and method for producing substrate for magnetic disk

WO0100745 Art A1 4. Januar 2001

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0100745
Aktenzeichen: EP00942364
Anmeldetag: 28. Juni 2000
Veröffentlichung: 4. Januar 2001
Rechtsraum: WO
IPC: C09K3/14B24B37/00G11B5/84

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

2.327 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von