Verfahren zum Kompensieren des Materialverlusts in einer Metallsilizidschicht in Kontakten einer Integrierten Schaltung
WO0104947
Art A1
18. Januar 2001
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0104947
- Aktenzeichen
- EP00915933
- Anmeldetag
- 1. März 2000
- Veröffentlichung
- 18. Januar 2001
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/768
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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