Methode zur Bestimmung der Ausrichtung von Phasenschiebermotiven in einem Verfahren zur Herstellung von Fotomasken

WO0113176 Art A1 22. Februar 2001

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0113176
Aktenzeichen: EP00950958
Anmeldetag: 2. August 2000
Veröffentlichung: 22. Februar 2001
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Micron Technology, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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