Method for forming resist pattern having improved dry-etching resistance

WO0122170 Art A1 29. März 2001

Anmelder: Clariant International Ltd., Takahashi, Shuichi 🇨🇭

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0122170
Aktenzeichen: EP00961072
Anmeldetag: 19. September 2000
Veröffentlichung: 29. März 2001
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/38G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Clariant International Ltd.
Takahashi, Shuichi
Land: 🇨🇭 Schweiz

🇨🇭 Clariant

Clariant ist ein Schweizer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Muttenz, der Additive, Katalysatoren und Wirkstoffe für Industrie, Konsumgüter und Energieanwendungen herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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