Hochselektives Ätzmittel für Dotierten Silikatglas

WO0124244 Art A1 5. April 2001

Anmelder: Infineon Technologies North America Corp., SEZ Semiconductor-Equipment Zubehör für die Halbleiterfertigung AG 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0124244
Aktenzeichen: EP00965092
Anmeldetag: 15. September 2000
Veröffentlichung: 5. April 2001
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Infineon Technologies North America Corp.
SEZ Semiconductor-Equipment Zubehör für die Halbleiterfertigung AG
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Infineon Technologies North America

Infineon Technologies North America ist die US-amerikanische Tochtergesellschaft des deutschen Halbleiterkonzerns Infineon Technologies. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Datenspeicherung und Schaltungstechnik. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2015.

368 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von