Reference wafer for controlling accuracy and method for producing the same, aligner, and method for fabricating device
WO0127979
Art A1
19. April 2001
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0127979
- Aktenzeichen
- EP00966506
- Anmeldetag
- 16. Oktober 2000
- Veröffentlichung
- 19. April 2001
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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