Method of making an optoelectronic device using multiple etch stop layers

WO0129881 Art A2 26. April 2001

Anmelder: Lockheed Martin Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0129881
Aktenzeichen: EP00992446
Anmeldetag: 20. Oktober 2000
Veröffentlichung: 26. April 2001
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/44H01L21/02H01L21/22H05K3/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lockheed Martin Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lockheed Martin

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Rüstungskonzern mit Sitz in Maryland, tätig in Entwicklung von Kampfflugzeugen, Raketensystemen, Satelliten und Verteidigungstechnik.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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