Verfahren zur Reinigung einer Monokristallinen Silizium-Halbleiterscheibe

WO0129888 Art A1 26. April 2001

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0129888
Aktenzeichen: EP00979407
Anmeldetag: 4. Oktober 2000
Veröffentlichung: 26. April 2001
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/322H01L21/8246

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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