Vorrichtung und Verfahren zum Abgeben von Vorläuferdampf aus Flüssigkeitsquellen mit Niedrigem Dampfdruck in eine Cvd-Kammer

WO0136707 Art A1 25. Mai 2001

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0136707
Aktenzeichen: EP00961926
Anmeldetag: 15. September 2000
Veröffentlichung: 25. Mai 2001
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/448

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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