Verbesserter, Fluor-Dotierter SIO2 Film

WO0141203 Art A1 7. Juni 2001

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0141203
Aktenzeichen: EP00973472
Anmeldetag: 11. Oktober 2000
Veröffentlichung: 7. Juni 2001
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/316C23C16/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Intel Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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