Method and system for reducing damage to substrates during plasma processing with a resonator source

WO0146492 Art A1 28. Juni 2001

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0146492
Aktenzeichen: EP00989234
Anmeldetag: 20. Dezember 2000
Veröffentlichung: 28. Juni 2001
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/507

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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