In Situ Entfernung von Nach-Ätzung Photoresist und Polymeren, und Ätzkammerreinigung

WO0148804 Art A1 5. Juli 2001

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0148804
Aktenzeichen: EP00986624
Anmeldetag: 19. Dezember 2000
Veröffentlichung: 5. Juli 2001
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/311G03F7/42H01L21/306H01L21/3213H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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