Verfahren und Vorrichtung zur Endpunktermittlung Beim Cmp mittels in das Polierkissen Integrierter Elektroden

WO0149452 Art A1 12. Juli 2001

Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO0149452
Aktenzeichen
EP00980616
Anmeldetag
21. November 2000
Veröffentlichung
12. Juli 2001
Rechtsraum
WO
IPC
B24B37/04B24B49/04
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Advanced Micro Devices

US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.

2.407 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen