A method of wafer band-edge measurement using transmission spectroscopy and a process for controlling the temperature uniformity of a wafer
WO0150109
Art A2
12. Juli 2001
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0150109
- Aktenzeichen
- EP01902960
- Anmeldetag
- 5. Januar 2001
- Veröffentlichung
- 12. Juli 2001
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05B1/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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