Low thermal budget metal oxide deposition for capacitor structures

WO0150510 Art A2 12. Juli 2001

Anmelder: Applied Materials, Inc., MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0150510
Aktenzeichen: EP01939995
Anmeldetag: 8. Januar 2001
Veröffentlichung: 12. Juli 2001
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/316H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Applied Materials, Inc.
MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

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