System, Verfahren und Photomaske zur Aberrationskompensation in einem Photolithographischen Mustererzeugungssystem
WO0151993
Art A1
19. Juli 2001
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0151993
- Aktenzeichen
- EP00960089
- Anmeldetag
- 11. September 2000
- Veröffentlichung
- 19. Juli 2001
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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