Method and detergent for cleansing semiconductor device substrate having transition metal or transition metal compound on surface

WO0154180 Art A1 26. Juli 2001

Anmelder: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0154180
Aktenzeichen: EP01942789
Anmeldetag: 24. Januar 2001
Veröffentlichung: 26. Juli 2001
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D3/24C11D1/12C11D1/37

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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