Verfahren zur Reduzierung der Übergangskapazität mit einer Haloimplantierung-Photomaske
WO0154201
Art A1
26. Juli 2001
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0154201
- Aktenzeichen
- EP00959932
- Anmeldetag
- 6. September 2000
- Veröffentlichung
- 26. Juli 2001
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/10H01L21/336
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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