Method for manufacturing semiconductor device

WO0161744 Art A1 23. August 2001

Anmelder: Hitachi, Ltd., Hitachi Tohbu Semiconductor, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO0161744
Aktenzeichen
EP00902976
Anmeldetag
15. Februar 2000
Veröffentlichung
23. August 2001
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/50H01L25/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Hitachi, Ltd.
Hitachi Tohbu Semiconductor, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi

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