Method and apparatus for leak detecting, and apparatus for semiconductor manufacture

WO0163250 Art A1 30. August 2001

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Tomoe, Shokai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0163250
Aktenzeichen: EP01906275
Anmeldetag: 23. Februar 2001
Veröffentlichung: 30. August 2001
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/35

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
Tomoe, Shokai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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