Laser Discharge Chamber Passivation By Plasma

WO0166272 Art A1 13. September 2001

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0166272
Aktenzeichen: EP01914430
Anmeldetag: 21. Februar 2001
Veröffentlichung: 13. September 2001
Rechtsraum: WO
IPC: B08B7/00B08B7/04H01S3/03H01S3/036

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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