Liquid sources for cvd of group 6 metals and metal compounds

WO0166816 Art A1 13. September 2001

Anmelder: President and Fellows of Harvard College 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0166816
Aktenzeichen: EP01918357
Anmeldetag: 5. März 2001
Veröffentlichung: 13. September 2001
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/00C23C16/06C23C16/16C23C16/18C23C16/34C07F11/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: President and Fellows of Harvard College
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Harvard University

US-amerikanische Elite-Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts. Harvard betreibt Forschung und Patentierung in zahlreichen Feldern, insbesondere Biotechnologie, Medizin, Life Sciences und Materialwissenschaften.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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