Plasma Basiertes Verfahren für Photonische Integration

WO0167569 Art A1 13. September 2001

Anmelder: Nanyang Technological University 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0167569
Aktenzeichen: EP00921296
Anmeldetag: 8. März 2000
Veröffentlichung: 13. September 2001
Rechtsraum: WO
IPC: H01S5/026H01L21/18H01L33/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nanyang Technological University
Land: 🇸🇬 Singapur

🇸🇬 Nanyang Technological University

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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