High speed stripping for damaged photoresist

WO0170517 Art A1 27. September 2001

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO0170517
Aktenzeichen
EP01920141
Anmeldetag
20. März 2001
Veröffentlichung
27. September 2001
Rechtsraum
WO
IPC
B44C1/22H01L21/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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