Verfahren zur Herstellung eines Silizid-Gate-Stapels zur Verwendung in einer Selbstjustierten Kontaktlochätzung

WO0171800 Art A2 27. September 2001

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0171800
Aktenzeichen: EP01918891
Anmeldetag: 22. März 2001
Veröffentlichung: 27. September 2001
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/60

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Micron Technology, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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