Verfahren und Gerät zur Endpunktbestimmung eines Prozesses,poliervorrichtung,verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung und Aufzeichnungsmedium auf dem ein Signalverarbeitungsprogram Aufgezeichnet Wird

WO0172470 Art A1 4. Oktober 2001

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0172470
Aktenzeichen: EP01917510
Anmeldetag: 28. März 2001
Veröffentlichung: 4. Oktober 2001
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/00H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

5.286 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von