Methoden und Strukturen zum Schutz von Photomasken gegen Elektrostatisch Bedingte Schäden

WO0175943 Art A2 11. Oktober 2001

Anmelder: Xilinx, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0175943
Aktenzeichen: EP01916597
Anmeldetag: 12. März 2001
Veröffentlichung: 11. Oktober 2001
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Xilinx, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Xilinx, Inc.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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