Plasmaätzverfahren mit Trockensilylierung

WO0175944 Art A2 11. Oktober 2001

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0175944
Aktenzeichen: EP01920656
Anmeldetag: 23. März 2001
Veröffentlichung: 11. Oktober 2001
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von