Photosensitive Resin Composition

WO0179325 Art A1 25. Oktober 2001

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0179325
Aktenzeichen: EP01921862
Anmeldetag: 18. April 2001
Veröffentlichung: 25. Oktober 2001
Rechtsraum: WO
IPC: C08G61/08C08F299/02C08L65/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

2.552 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

Vertreten von