Method for observing surface of sample, method for observing surface of sample by electron microscope, electron microscope, and method for manufacturing semiconductor device
WO0180280
Art A1
25. Oktober 2001
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0180280
- Aktenzeichen
- EP01921796
- Anmeldetag
- 9. April 2001
- Veröffentlichung
- 25. Oktober 2001
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/29H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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