Device and method for polishing outer peripheral chamfered part of wafer
WO0182353
Art A1
1. November 2001
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0182353
- Aktenzeichen
- EP01921871
- Anmeldetag
- 18. April 2001
- Veröffentlichung
- 1. November 2001
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Vertreten von
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