Method and apparatus for distributing gas within high density plasma process chamber to ensure uniform plasma

WO0183852 Art A1 8. November 2001

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0183852
Aktenzeichen: EP01928453
Anmeldetag: 27. April 2001
Veröffentlichung: 8. November 2001
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/02C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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