Methods and systems for lithography process control

WO0184382 Art A1 8. November 2001

Anmelder: KLA-TENCOR INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0184382
Aktenzeichen: EP01935041
Anmeldetag: 4. Mai 2001
Veröffentlichung: 8. November 2001
Rechtsraum: WO
IPC: G06F17/50G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: KLA-TENCOR INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

495 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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