Measuring Plasma Uniformity In-Situ At Wafer Level
WO0186688
Art A1
15. November 2001
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0186688
- Aktenzeichen
- EP01932538
- Anmeldetag
- 4. Mai 2001
- Veröffentlichung
- 15. November 2001
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/30H01J37/244
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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