Method and system for detecting metal contamination on a semiconductor wafer
WO0186698
Art A2
15. November 2001
Anmelder: KLA-TENCOR INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0186698
- Aktenzeichen
- EP01935419
- Anmeldetag
- 10. Mai 2001
- Veröffentlichung
- 15. November 2001
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA-TENCOR INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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