Photosensitive resin composition, photosensitive element, production method for resist pattern and production method for printed circuit board

WO0192958 Art A1 6. Dezember 2001

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0192958
Aktenzeichen: EP01934389
Anmeldetag: 29. Mai 2001
Veröffentlichung: 6. Dezember 2001
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/031H05K3/06C08F299/02C08F2/50H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von