Platinum electrode structure for semiconductor and method for enhancing adhesion between semiconductor substrate and platinum electrode
WO0193320
Art A1
6. Dezember 2001
Anmelder: Korea Institute of Science and Technology 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0193320
- Aktenzeichen
- EP00935691
- Anmeldetag
- 1. Juni 2000
- Veröffentlichung
- 6. Dezember 2001
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Korea Institute of Science and Technology
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Korea Institute of Science and Technology
Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Seoul, das interdisziplinäre Forschung in Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialtechnologie betreibt und zahlreiche Patente aus seinen Instituten hervorbringt.
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