Platinum electrode structure for semiconductor and method for enhancing adhesion between semiconductor substrate and platinum electrode

WO0193320 Art A1 6. Dezember 2001

Anmelder: Korea Institute of Science and Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO0193320
Aktenzeichen
EP00935691
Anmeldetag
1. Juni 2000
Veröffentlichung
6. Dezember 2001
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/28
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Korea Institute of Science and Technology
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Korea Institute of Science and Technology

Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Seoul, das interdisziplinäre Forschung in Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialtechnologie betreibt und zahlreiche Patente aus seinen Instituten hervorbringt.

709 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen