Gas introducing system for temperature control of processed body

WO0193321 Art A1 6. Dezember 2001

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0193321
Aktenzeichen: EP01932294
Anmeldetag: 28. Mai 2001
Veröffentlichung: 6. Dezember 2001
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/205C23C16/52H01L21/203H01L21/68B01J3/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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