Sige crystal and method for producing the same

WO0196238 Art A1 20. Dezember 2001

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0196238
Aktenzeichen: EP01932312
Anmeldetag: 29. Mai 2001
Veröffentlichung: 20. Dezember 2001
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/06C30B29/52H01L35/14H01L35/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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