Vorrichtung und Schaltung mit Reduziertem Leckstrom und Geeignetes Verfahren
WO0197380
Art A1
20. Dezember 2001
Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0197380
- Aktenzeichen
- EP01939846
- Anmeldetag
- 1. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 20. Dezember 2001
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H03K19/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Intel Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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