Photosensitive resin composition, photosensitive element comprising the same, process for producing resist pattern, and process for producing printed circuit board

WO0198832 Art A1 27. Dezember 2001

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0198832
Aktenzeichen: EP01943815
Anmeldetag: 22. Juni 2001
Veröffentlichung: 27. Dezember 2001
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/028G03F7/033C08L101/00C08L25/00C08F299/02H05K3/06H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von