Crucible supporting device, and method and device for filling material
WO0200967
Art A1
3. Januar 2002
Anmelder: SHIN-ETSU HANDOTAI COMPANY LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0200967
- Aktenzeichen
- EP01941216
- Anmeldetag
- 25. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 3. Januar 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B15/30C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU HANDOTAI COMPANY LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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