Fotomaske und Verfahren zur Erhöhung des Aspektverhältnisses unter Erhöhung der Toleranzgrenzen bei der Maskenherstellung

WO0201293 Art A2 3. Januar 2002

Anmelder: Infineon Technologies North America Corp. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0201293
Aktenzeichen: EP01952247
Anmeldetag: 26. Juni 2001
Veröffentlichung: 3. Januar 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies North America Corp.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Infineon Technologies North America

Infineon Technologies North America ist die US-amerikanische Tochtergesellschaft des deutschen Halbleiterkonzerns Infineon Technologies. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Datenspeicherung und Schaltungstechnik. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2015.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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