Extreme Repetition Rate Gas Discharge Laser

WO0203509 Art A1 10. Januar 2002

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0203509
Aktenzeichen: EP01948215
Anmeldetag: 9. Mai 2001
Veröffentlichung: 10. Januar 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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