Resist resin, chemical amplification type resist, and method of forming pattern with the same

WO0205034 Art A1 17. Januar 2002

Anmelder: NEC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0205034
Aktenzeichen: EP01945744
Anmeldetag: 2. Juli 2001
Veröffentlichung: 17. Januar 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F232/00C08F220/10C08F222/06C08G61/12H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: NEC Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

18.204 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von