Photobase generators, curable compositions prepared by using the same and process of curing

WO02051905 Art A1 4. Juli 2002

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02051905
Aktenzeichen: EP01995022
Anmeldetag: 27. Dezember 2001
Veröffentlichung: 4. Juli 2002
Rechtsraum: WO
IPC: C08G59/40C08G59/50C08G18/32C07C243/40

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie

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