Method and device for mask cleaning, and device manufacturing system

WO02052345 Art A1 4. Juli 2002

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO02052345
Aktenzeichen: EP01272262
Anmeldetag: 20. Dezember 2001
Veröffentlichung: 4. Juli 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08G03F1/14H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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